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http://cimav.repositorioinstitucional.mx/jspui/handle/1004/1381| XAS and grazing angle XRD of the CoTi2 thin films grown by DC co-sputtering technique | |
| IGNACIO YOCUPICIO VILLEGAS HILDA ESPERANZA ESPARZA PONCE JOSE ALBERTO DUARTE MOLLER | |
| Acceso Abierto | |
| Sin Derechos Reservados | |
| XAS | |
| The cobalt-titanium thin films were prepared to 500°C in an INTERCOVAMEX V3 sputtering system equipped with four magnetrons assisted by DC pulsed and direct DC. A polished highly oriented (400) silicon wafer was used as substrate. Some references can be read for more information [1,2] | |
| 2008 | |
| Memoria de congreso | |
| Inglés | |
| OTRAS | |
| Versión revisada | |
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| Aparece en las colecciones: | Artículos de Congresos |
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| XAS and grazing MandM 08.pdf | 189.66 kB | Adobe PDF | Visualizar/Abrir |