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Silicon nanocrystals into silicon dioxide: comparison between obtaining techniques
ALFREDO MORALES SANCHEZ
CARLOS DOMINGUEZ RIOS
Acceso Abierto
Sin Derechos Reservados
SRO
A comparative analysis (compositional and optical) was carried out on silicon rich oxide (SRO) films deposited by low pressure chemical vapor deposition (LPCVD) and plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD).
2006
Memoria de congreso
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