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http://cimav.repositorioinstitucional.mx/jspui/handle/1004/72
ESTUDIO DE TRANSISTORES FET DE CdS POR DIFERENTES FORMULACIONES MEDIANTE BAÑO QUIMICO | |
TEMISTOCLES MENDIVIL REYNOSO | |
RAFAEL RAMIREZ BON SION FEDERICO OLIVE MENDEZ | |
Acceso Abierto | |
Atribución | |
En este capítulo se presentaran algunos antecedentes generales sobre la importancia de los
transistores de efecto de campo (FET) en el avance tecnológico, así como las posibilidades que nos
brinda la ciencia de los materiales, como características únicas y procesamiento de diferentes
sustancias. Sustancias como el CdS, material a emplear en esta investigación, mencionando algunas
aplicaciones del mismo y además se plantearon objetivos del trabajo. En el segundo capítulo se
presenta la metodología, se listan las formulaciones de las reacciones así como se describe el
procedimiento de cómo implementarlas, dos sistemas se emplean uno con glicina y otro con citrato
de sodio que además incluye disoluciones M1, M2, M3 y M4 disminuyendo la concentración de
cadmio respectivamente. Por otra parte, la caracterización de las películas de CdS así como una
introducción a la técnica de depósito de estas. En el capítulo tres se describe cómo la combinación
de diferentes tipos de estos materiales nos brindan la posibilidad fabricar dispositivos FET, se
realiza una revisión de los conceptos más importantes de transistores FET, su clasificación y
principales características. Además se presenta el proceso de fabricación usado en el desarrollo del
FET a base de capas CdS como canal activo empleadas en este trabajo.
En el cuarto capítulo se presentan el desarrollo experimental y resultados obtenidos al
fabricar los transistores pseudo MOSFET todos estos poseen una capa activa de CdS depositada
por baño químico, se muestran las curvas de Corriente contra voltaje que nos permitirán determinar
las propiedades eléctricas de los dispositivos, también se mostraran propiedades morfológicas tanto
superficiales y estructurales que caracterizan al material. Se presentaran tres estudios: en el primero
de ellos la formulación química de películas de sulfuro de cadmio (CdS) emplea glicina, en el
segundo estudio se observa el efecto del tratamientos térmicos en las propiedades eléctricas de la capa activa de CdS de los dispositivos TFT para diferentes atmosferas como nitrógeno, argón y forming gas (N2-H2) para la formulación M2, así como también la combinación de los tratamientos de forming gas con inmersiones en una solución saturada en CdCl. Por último, se fabricaron bicapas de las diferentes formulaciones, específicamente M1/M4, M2/M4, M3/M4 y M4/M4 para estudiar su efecto en las propiedades eléctricas como capa activa de los dispositivos TFT de CdS. | |
2015-05 | |
Tesis de doctorado | |
Español | |
QUÍMICA | |
Aparece en las colecciones: | Doctorado en Ciencia de Materiales |
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